粉碎粒度范圍D50:1.5-45微米,粒形好,粒度分布窄;粉碎過程依靠物料自身的碰撞來完成,完全自磨,因此設備耐磨損,產品純度高;轉子速度可以變頻調速,靈活調整粒度分布;適用于莫式硬度9以下的各類物料的干法粉碎,尤其適合高硬度、高純度、高附加值物料的粉碎;恒溫或低溫無介質粉碎,尤其適合于熱敏性、低熔點、含糖分、揮發性物料的粉碎;整套系統密閉粉碎,粉塵少,噪音低,生產過程清潔環保;控制系統采用程序控制,操作簡便;可選用防爆設計,也可升級為氮氣循環系統,滿足易燃易爆易氧化物料的超細粉碎加工需求;
可用于陶瓷涂層的主要有:氧化物、碳化物、氮化物、硼化物陶瓷等。氧化物陶瓷常用的涂層材料有Al2O3,TiO2,ZrO2,Cr2O3,SiO2,MgO,BeO,Y2O3等;碳化物陶瓷主要有SiC,WC,BC,TiC等;氮化物陶瓷主要有Si3N4,TiN,BN,AlN等;硼化物陶瓷,常用的有TiB,ZrB2等。
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粉碎粒度范圍D50:1.5-45微米,粒形好,粒度分布窄;粉碎過程依靠物料自身的碰撞來完成,完全自磨,因此設備耐磨損,產品純度高;轉子速度可以變頻調速,靈活調整粒度分布;適用于莫式硬度9以下的各類物料的干法粉碎,尤其適合高硬度、高純度、高附加值物料的粉碎;恒溫或低溫無介質粉碎,尤其適合于熱敏性、低熔點、含糖分、揮發性物料的粉碎;整套系統密閉粉碎,粉塵少,噪音低,生產過程清潔環保;控制系統采用程序控制,操作簡便;可選用防爆設計,也可升級為氮氣循環系統,滿足易燃易爆易氧化物料的超細粉碎加工需求;
可用于陶瓷涂層的主要有:氧化物、碳化物、氮化物、硼化物陶瓷等。氧化物陶瓷常用的涂層材料有Al2O3,TiO2,ZrO2,Cr2O3,SiO2,MgO,BeO,Y2O3等;碳化物陶瓷主要有SiC,WC,BC,TiC等;氮化物陶瓷主要有Si3N4,TiN,BN,AlN等;硼化物陶瓷,常用的有TiB,ZrB2等。
粉碎粒度范圍D50:1-45微米,粒形好,粒度分布窄;
粉碎過程依靠物料自身的碰撞來完成,完全自磨,因此設備耐磨損,產品純度高;
轉子速度可以變頻調速,靈活調整粒度分布;
適用于莫氏硬度9以下的各類物料的干法粉碎,尤其適合高硬度、高純度、高附加值物料的粉碎;
恒溫或低溫無介質粉碎,尤其適合于熱敏性、低熔點、含糖份、揮發性物料的粉碎;
整套系統密閉粉碎,粉塵少,噪音低,生產過程清潔環保;
控制系統采用程序控制,操作簡便;
可選用防爆設計,也可升級為氮氣循環系統,滿足易燃易爆易氧化物料的超細粉碎加工需求。
壓縮空氣經過濾干燥后,通過拉瓦爾噴嘴高速噴射入粉碎腔,在多股高壓氣流的交匯點處物料被反復碰撞、磨擦、剪切而粉碎,粉碎后的物料在風機抽力作用下隨上升氣流運動至分級區,在高速旋轉的分級渦輪產生的強大離心力作用下,粗細物料分離,符合粒度要求的細顆粒通過分級輪進入旋風分離器和除塵器收集,粗顆粒下降至粉碎區繼續粉碎。